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J-GLOBAL ID：200903083823850237

ブラックマトリクス付マイクロレンズ基板の製造方法、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置

Inventor： 四谷 真一
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999041682
Publication number (International publication number)：1999344602
Application date： Feb. 19, 1999
Publication date： Dec. 14, 1999
Summary：

【要約】【課題】マイクロレンズの光軸とブラックマトリクスの開口部とを高精度で一致させることができるブラックマトリクス付マイクロレンズ基板の製造方法を提供すること。【解決手段】まず、マイクロレンズ101が形成された基板100のマイクロレンズ101が形成された面と反対側の面に、ネガレジストで構成されたネガ型レジスト層130を形成する。次に、ネガ型レジスト層130と反対側から光140を照射し、感光部131を形成する。次に、基板100のネガ型レジスト層130を形成した面に、ブラックマトリクス102となるべき遮光膜132を形成する。次に、感光部131を除去すると、開口104が形成されたブラックマトリクス102が形成される。

Claim (excerpt)：

透明基板に形成された多数のマイクロレンズに対応する開口を有するブラックマトリクスを、フォトリソグラフィー法により形成するブラックマトリクス付マイクロレンズ基板の製造方法であって、前記ブラックマトリクスを形成するにあたり、前記マイクロレンズを光学系として用いて露光を行うことを特徴とするブラックマトリクス付マイクロレンズ基板の製造方法。

IPC (3)：

G02B 3/00 ,  G02B 5/00 ,  B29D 11/00

FI (3)：

G02B 3/00 A ,  G02B 5/00 B ,  B29D 11/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• セルフパターニング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-196231   Applicant：日本板硝子株式会社
• 特開昭50-010134
  
• 特開平4-240617