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J-GLOBAL ID：200903083863182733

耐クラック性に優れた付加硬化型シリコーン組成物

Inventor：
三好 敬

About 三好 敬


Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

About 信越化学工業株式会社


Agent (1)： 岩見谷 周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005278352
Publication number (International publication number)：2007084766
Application date： Sep. 26, 2005
Publication date： Apr. 05, 2007
Summary：
【課題】 耐クラック性に優れた高硬度のシリコーン組成物を提供する。【解決手段】(A)平均組成式:R1nSiZ[(4-n)/2](R1は一価炭化水素基、アルコキシ基又は水酸基であり、全R1の5〜50モル%がアルケニル基、10〜80モル%がアリール基であり、Zは酸素原子又は二価炭化水素基であり、全Zの80モル%以上が酸素原子であり、nは1≦n<2を満たす数である)で表され、全珪素原子の5〜50モル%が平均式:-SiR22-X-(SiR22O)lSiR22-X-SiR22O-(R2は一価炭化水素基であり、全R2の10〜80モル%がアリール基であり、Xは酸素原子又は二価炭化水素基であり、lは3以上の整数である)で表される構造中に存在するオルガノポリシロキサン、(B)SiH基を一分子中に2個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及び(C)付加反応触媒を含むシリコーン組成物、並びにその硬化物。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)下記平均組成式(1): R1nSiZ[(4-n)/2] (1) (式中、R1は独立に、非置換もしくは置換の一価炭化水素基、アルコキシ基または水酸基であり、但し、全R1の5〜50モル%がアルケニル基であり、かつ全R1の10〜80モル%がアリール基であり、Zは酸素原子もしくは炭素原子数が2〜10の二価炭化水素基であり、但し、全Zの80モル%以上が酸素原子であり、nは1≦n<2を満たす数である。) で表され、全ケイ素原子の5〜50モル%が下記平均式(2): -SiR22-X-(SiR22O)lSiR22-X-SiR22O- (2) (式中、R2は独立に、非置換もしくは置換の一価炭化水素基であり、但し、全R2の10〜80モル%がアリール基であり、Xは酸素原子もしくは炭素原子数が2〜10の二価炭化水素基であり、lは3以上の整数である。) で表される構造中に存在する、25°Cでの粘度が10mPa・s以上である液状または固体状のオルガノポリシロキサン、 (B)下記平均組成式(3): R3aHbSiO[(4-a-b)/2] (3) (式中、R3は独立に、脂肪族不飽和結合を有しない非置換または置換の一価炭化水素基であり、aは0.7≦a≦2.1を満たす数であり、bは0.001≦b≦1.0を満たす数であり、但し、a+bは0.8≦a+b≦3を満たす数である。) で表され、ケイ素原子に結合した水素原子を一分子中に少なくとも2個有し、25°Cでの粘度が1000mPa・s以下であるオルガノハイドロジェンポリシロキサン: (A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基1モルに対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子の割合が0.7〜5モルの範囲となる量、ならびに (C)付加反応触媒: 有効量 を含む付加反応硬化型シリコーン組成物。
IPC (6)：
C08L 83/07 ,  C08L 83/05 ,  C08K 3/10 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31 ,  H01L 33/00
FI (5)：
C08L83/07 ,  C08L83/05 ,  C08K3/10 ,  H01L23/30 F ,  H01L33/00 N
F-Term (20)：
4J002CP04X ,  4J002CP14W ,  4J002DD026 ,  4J002FD146 ,  4J002GQ01 ,  4J002GQ05 ,  4M109AA01 ,  4M109BA01 ,  4M109CA02 ,  4M109CA21 ,  4M109EA10 ,  4M109EB04 ,  4M109EB18 ,  4M109EC03 ,  4M109EC05 ,  4M109EC11 ,  4M109EC15 ,  4M109GA01 ,  5F041AA44 ,  5F041DA43
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (5)
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