高純度シリコーンラダーポリマーおよびその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：曾我道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993074171
Publication number (International publication number)：1994248083
Application date： Mar. 31, 1993
Publication date： Sep. 06, 1994
Summary：

【要約】【構成】重量平均分子量が600〜1,000,000であり、且つ分子量分布が10以下である、ナトリウム、カリウム、鉄、銅、鉛および塩素の各含有量が1ppm以下であり、ウラン、トリウムの各含有量が1ppb以下である高純度シリコーンラダーポリマー。【効果】本発明の高純度シリコーンラダーポリマーは、極めて高純度および高分子量であり、容易に製造することができる。従って半導体の表面保護膜、層間絶縁膜などに好適に使用することができる。

Claim (excerpt)：

ナトリウム、カリウム、鉄、銅、鉛および塩素の各含有量が1ppm以下であり、ウラン、トリウムの各含有量が1ppb以下である一般式(I):【化1】(式中、R1およびR2は同種または異種の低級アルキル基であり、R3,R4、R5およびR6は、水素原子あるいは低級アルキル基であり、nは重量平均分子量が600〜1,000,000に対応する自然数を示す)で表され、且つ分子量分布が10以下である高純度シリコーンラダーポリマー。

IPC (2)：

C08G 77/06 NUB , C08G 77/06 NUG

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

高純度シリコーンラダーポリマーおよびその製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-208994 Applicant：三菱電機株式会社
特開昭64-026639
特開平3-207719

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