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J-GLOBAL ID：200903083883786570

超音波基板処理装置

Inventor： 芳谷 光明
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 小野 由己男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998276707
Publication number (International publication number)：2000107710
Application date： Sep. 30, 1998
Publication date： Apr. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】 超音波によるキャビテーション領域の変動が少ない基板処理装置を提供し、基板の均一な処理を図る。【解決手段】 基板洗浄装置1は、洗浄槽2と、境界板7と、超音波振動子8とを備えている。洗浄槽2には、洗浄液が貯留されており、被処理物である基板Wが収容される。境界板7は、洗浄槽2内の洗浄液とその上方の雰囲気との間に配置される。超音波振動子8は、境界板7に向けて超音波を発振する。

Claim (excerpt)：

基板を収容する処理液槽と、前記処理液槽内の処理液と雰囲気との間に配置される境界板と、前記境界板に向けて超音波を発振する超音波振動子と、を備えた超音波基板処理装置。

IPC (3)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304

FI (3)：

B08B 3/12 A ,  H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/304 642 E

F-Term (7)：

3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201AB37 ,  3B201BB04 ,  3B201BB86 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01