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J-GLOBAL ID：200903083895664845

反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置

Inventor：
岡野 賢

About 岡野 賢


Applicant, Patent owner：
コニカミノルタオプト株式会社

About コニカミノルタオプト株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008054697
Publication number (International publication number)：2009210876
Application date： Mar. 05, 2008
Publication date： Sep. 17, 2009
Summary：
【課題】本発明の目的は、高温高湿下といった湿熱処理後の耐薬品性、密着性、及び耐擦傷性に優れる反射防止フィルムを提供することにある。また、上記膜物性向上を、1層の低屈折率層よりなる反射防止層を形成することで、低コスト性に優れる反射防止フィルムを提供することにある。【解決手段】フィルム基材上に直接又は他の層を介してハードコート層を設け、更にハードコート層上に低屈折率層を積層する反射防止フィルムの製造方法において、該ハードコート層がHLB値が3〜18の化合物を少なくとも1種含有し、更にハードコート層面に表面処理を行った後、外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ系粒子を少なくとも1種含有する低屈折率層を積層することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
フィルム基材上に直接又は他の層を介してハードコート層を設け、更にハードコート層上に低屈折率層を積層する反射防止フィルムの製造方法において、該ハードコート層がHLB値が3〜18の化合物を少なくとも1種含有し、更にハードコート層面に表面処理を行った後、外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ系粒子を少なくとも1種含有する低屈折率層を積層することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
IPC (4)：
G02B 1/11 ,  B32B 7/02 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/30
FI (4)：
G02B1/10 A ,  B32B7/02 103 ,  G02B1/10 Z ,  G02B5/30
F-Term (46)：
2H149AA02 ,  2H149BA02 ,  2H149CA02 ,  2H149EA12 ,  2H149EA22 ,  2H149FA02Z ,  2H149FA03W ,  2H149FA08Z ,  2H149FA63 ,  2H149FC02 ,  2H149FC03 ,  2H149FC04 ,  2H149FD41 ,  2K009AA02 ,  2K009AA15 ,  2K009BB14 ,  2K009BB28 ,  2K009CC09 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD12 ,  2K009DD17 ,  2K009EE03 ,  4F100AA20C ,  4F100AJ04A ,  4F100AK01A ,  4F100AK25A ,  4F100AR00B ,  4F100AR00C ,  4F100AR00D ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100DE01A ,  4F100DE01C ,  4F100EJ01B ,  4F100EJ61B ,  4F100GB41 ,  4F100JG01D ,  4F100JK09B ,  4F100JK12B ,  4F100JN06 ,  4F100JN18C ,  4F100YY00B
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)

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