Pat
J-GLOBAL ID:200903083957869554
結像光学系の調整方法、マーク位置検出装置の調整方法、マーク位置検出装置、調整用基板、および結像光学系の評価方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
古谷 史旺
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003155181
Publication number (International publication number):2004354330
Application date: May. 30, 2003
Publication date: Dec. 16, 2004
Summary:
【課題】調整感度の向上により装置起因の誤差TISを確実に低減できる結像光学系の調整方法、マーク位置検出装置の調整方法、マーク位置検出装置、調整用基板、および結像光学系の評価方法を提供する。【解決手段】物体からの光に基づいて像を形成する結像光学系の物体面に複数の調整用マーク35,36を配置し、複数の調整用マークの各々から発生した波長域の異なる光に基づいて結像光学系の像面に形成された複数のマーク像を撮像する撮像工程と、撮像工程で撮像された複数のマーク像の位置ずれに基づいて、結像光学系の色分散特性を補正する補正工程とを備える。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
物体からの光に基づいて像を形成する結像光学系の物体面に複数の調整用マークを配置し、前記複数の調整用マークの各々から発生した波長域の異なる光に基づいて前記結像光学系の像面に形成された複数のマーク像を撮像する撮像工程と、
前記撮像工程で撮像された前記複数のマーク像の位置ずれに基づいて、前記結像光学系の色分散特性を補正する補正工程とを備えた
ことを特徴とする結像光学系の調整方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (23):
2F065AA20
, 2F065AA31
, 2F065BB02
, 2F065BB29
, 2F065CC19
, 2F065EE00
, 2F065FF01
, 2F065FF10
, 2F065FF42
, 2F065FF61
, 2F065GG24
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065JJ26
, 2F065LL04
, 2F065LL28
, 2F065LL30
, 2F065LL46
, 2F065PP12
, 2F065QQ28
, 2F065QQ42
, 2F065RR06
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