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J-GLOBAL ID：200903083985389398

レジスト残渣除去剤

Inventor： 矢田 隆司 ,  寺山 重樹 ,  肥沼 豊 ,  大串 建
Applicant, Patent owner： 岸本産業株式会社
Agent (1)： 石井 陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999334202
Publication number (International publication number)：2000232063
Application date： Nov. 25, 1999
Publication date： Aug. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】 レジスト残渣の除去を、金属腐食などの問題を生じることなく、安全に行うことができる非劇毒物、非危険物のレジスト残渣除去剤を提供する。【解決手段】 リン酸アンモニウムおよび/または縮合リン酸アンモニウムを含有し、pHが1〜10の範囲の水溶液であるレジスト残渣除去剤。

Claim (excerpt)：

リン酸アンモニウムおよび/または縮合リン酸アンモニウムを含有し、pHが1〜10の範囲の水溶液であるレジスト残渣除去剤。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/308

FI (5)：

H01L 21/30 572 B ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/308 E ,  H01L 21/302 N

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-183022   Applicant：富士写真フイルム株式会社