Pat

J-GLOBAL ID：200903084006201428

ブラックマトリックス基板形成のための無電解メッキ液およびそれを用いて形成したブラックマトリックス基板

Inventor： 三田村 聡
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993065248
Publication number (International publication number)：1994073553
Application date： Mar. 24, 1993
Publication date： Mar. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 液晶ディスプレイ等のフラットディスプレイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラーセンサ等のカラーフィルタに用いることのできる寸法精度が高く遮光性に優れ反射率の低いブラックマトリックス基板、および、そのようなブラックマトリックス基板を低コストで製造することのできる無電解メッキ液を提供する。【構成】 水素化ホウ素化合物、次亜リン酸および次亜リン酸塩の中から選ばれた少なくとも一つの還元剤と、有機カルボン酸およびその塩の中から選ばれた少なくとも一つの錯化剤と、コバルト塩およびニッケル塩の中から選ばれた少なくとも一つの金属塩とを含有するメッキ液において、前記還元剤の濃度が0.005〜1mol/リットル、前記錯化剤の濃度が0.005〜5mol/リットル、前記金属塩の濃度が0.01〜1mol/リットルである。

Claim (excerpt)：

水素化ホウ素化合物、次亜リン酸および次亜リン酸塩の中から選ばれた少なくとも一つの還元剤と、有機カルボン酸およびその塩の中から選ばれた少なくとも一つの錯化剤と、コバルト塩およびニッケル塩の中から選ばれた少なくとも一つの金属塩とを含有するメッキ液において、前記還元剤の濃度が0.005〜1mol/リットル、前記錯化剤の濃度が0.005〜5mol/リットル、前記金属塩の濃度が0.01〜1mol/リットルであることを特徴とするブラックマトリックス基板形成のための無電解メッキ液。

IPC (4)：

C23C 18/36 ,  C23C 18/34 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505