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J-GLOBAL ID：200903084017674905

ユースポイントモジュールシステム

Inventor： 堀 隆博
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994226312
Publication number (International publication number)：1996089954
Application date： Sep. 21, 1994
Publication date： Apr. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】 半導体産業における超純水製造プロセスにおいて、配管や各ユニットプロセスからの溶出物や、残存不純物を最終的に取り除く機能を、ユースポイント直前に設置することにより、高純度超純水を安定に供給することを可能にするシステムを提供する。【構成】 膜内部にアニオン交換基を有する高分子鎖が保持されている中空糸状多孔膜であって、膜1gあたり0.2〜10ミリ等量のアニオン交換基を有し、平均孔径0.01〜1μmの中空糸状多孔膜を充填したモジュールをユースポイント直前に設置したことを特徴とするユースポイントモジュールシステムによって目的を達することができる。なお、上記中空糸状多孔膜として、膜内部にカチオン交換基を有する高分子鎖が保持されているものを使用した場合はカチオン除去性能を得ることができ、また、膜内部にキレート形成基を有する高分子鎖が保持されているものを使用した場合、極低濃度まで、重金属イオンを除去する性能を得ることができる。

Claim (excerpt)：

膜内部にイオン交換基を有する高分子鎖が保持されている中空糸状多孔膜であって、膜1gあたり0.2〜10ミリ等量のイオン交換基を有し、平均孔径0.01〜1μmの中空糸状多孔膜を充填したモジュールをユースポイント直前に設置したことを特徴とするユースポイントモジュールシステム。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• イオンの除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-016825   Applicant：旭化成工業株式会社