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J-GLOBAL ID：200903084038899370
成膜方法及び成膜装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994304483
Publication number (International publication number)：1996162445
Application date： Dec. 08, 1994
Publication date： Jun. 21, 1996
Summary：
【要約】【目的】 埋め込み特性を確保できる成膜方法及びそれを行う成膜装置を提供する。【構成】 内部が減圧状態に保たれるチャンバ10と、第1の反応ガス4を液体キャリアLcに溶解させた溶液Lを貯蔵する液槽11と、液槽11とチャンバ10とに接続し溶液Lをチャンバ10に供給する供給管12と、供給管12に設けられ供給管12内の溶液Lcを霧状にする霧状化手段13とを備えた成膜装置を用いて成膜を行うことによって、溶液Lを霧状にしてチャンバ10内に供給して第1の反応ガス4が気相中で活性化され難いようにする。これによって、第1の反応ガスが関与する成膜反応を試料2の処理表面2aにまで持ち越し、流動性を悪化させる成膜反応が処理表面2aで起こるようにする。
Claim (excerpt)：
減圧雰囲気中に複数の反応ガスを供給し、当該減圧雰囲気中に配置された試料の処理表面に前記各反応ガスを反応させてなる膜を形成する成膜方法において、前記反応ガスのうちの第1の反応ガスは、当該第1の反応ガスを液体キャリアに溶解させた溶液を霧状にして前記減圧雰囲気内に供給されることを特徴とする成膜方法。
IPC (4)：
H01L 21/31
, C23C 16/44
, H01L 21/205
, H01L 21/316
