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J-GLOBAL ID：200903084047814876

印刷回路用積層板の製造方法

Inventor： 田中 巧剛 ,  大鳥 利行 ,  池谷 国夫
Applicant, Patent owner： 住友ベークライト株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992064684
Publication number (International publication number)：1993198905
Application date： Jun. 24, 1985
Publication date： Aug. 06, 1993
Summary：

【要約】【構成】 有機紫外線吸収物質として、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル-5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、及び2-(3-t-ブチル-5-メチル-2-ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾールから選ばれた1種以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収物質を樹脂分に対して0.1〜5重量%配合する。【効果】 300nm〜400nmにおける紫外線遮蔽効果が大きく、積層板の両面に塗布されたフォトレジストを同時に露光する場合、互いに他面のフォトレジストを露光するというトラブルを防止することができる。

Claim (excerpt)：

エポキシ樹脂を含浸し、乾燥したガラス織布またはガラス不織布基材を積層成形する積層板の製造方法において、有機紫外線吸収物質として、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル-5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、及び2-(3-t-ブチル-5-メチル-2-ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾールから選ばれた1種以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収物質を樹脂分に対して0.1〜5重量%配合することを特徴とする印刷回路用積層板の製造方法。

IPC (2)：

H05K 1/03 ,  B32B 15/08