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J-GLOBAL ID:200903084062966372

水素製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994326818
Publication number (International publication number):1996183602
Application date: Dec. 28, 1994
Publication date: Jul. 16, 1996
Summary:
【要約】【目的】 原子炉から発生する放射線のエネルギーを有効に利用して水素を製造することができる方法を提供する。【構成】 酸化チタン微粒子にパラジウムを担持させた触媒体を水中に懸濁させ、ここにγ線を照射する。すると、γ線のエネルギーにより価電子帯から伝導体へ電子が励起し、この励起した電子はパラジウムの触媒作用によって容易にプロトンに受け渡され、プロトンは水素へと還元される。一方、価電子帯に生じた正孔は、水を酸化して酸素を生じさせるため、γ線のエネルギーを用いて水を分解し、水素を製造することができる。
Claim (excerpt):
白金族元素を半導体に担持した触媒体を水中に懸濁させ、この懸濁液にγ線を照射することにより水を分解して水素を製造する方法。
IPC (6):
C01B 3/08 ,  B01J 23/44 ,  B01J 23/46 301 ,  B01J 23/46 311 ,  B01J 35/02 ,  G21H 5/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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