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J-GLOBAL ID：200903084064056675

インプリント・リソグラフィ・プロセスおよびシステム

Inventor： スリーニヴァッサン,サイドルガタ ,  チェ,ビュン-ジン ,  ワッツ,マイケル ,  シューメーカー,ノーマン ,  ボイシン,ロナルド ,  メイッスル,マリオ ,  ボンネケイズ,ロジャー ,  ウィルソン,グラント
Applicant, Patent owner： モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
Agent (2)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004529089
Publication number (International publication number)：2005533393
Application date： Jul. 10, 2003
Publication date： Nov. 04, 2005
Summary：

装置(3900)を使用してインプリント・リソグラフィにより基板のパターン形成を行うプロセスは、インプリント・ヘッド(3100)、活性化光源(3500)、移動ステージ(3600)、パターン形成テンプレート(3700)、インプリント・ヘッド支持材(3910)、移動ステージ支持材(3920)、ブリッジ支持材(3930)、支持台(3940)を備える。

Claim (excerpt)：

テンプレートを使用して基板上にパターンを形成する方法であって、 テンプレートと基板との間に間隙ができるように互いに間隔をあけた関係でテンプレートと基板を位置決めすることと、 光活性光硬化液で実質的に間隙を満たすことと、 光活性光硬化液を固化させることを含む方法。

IPC (2)：

H01L21/027 ,  B29C35/08

FI (2)：

H01L21/30 502D ,  B29C35/08

F-Term (13)：

4F203AA44C ,  4F203AC06 ,  4F203AC07 ,  4F203AD03 ,  4F203AD08 ,  4F203AD18 ,  4F203AG03 ,  4F203AH36 ,  4F203AR06 ,  4F203DA12 ,  4F203DB01 ,  4F203DJ05 ,  5F046BA10