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J-GLOBAL ID：200903084101315821

浄化槽

Inventor： 佐藤 八郎 ,  北井 良人 ,  岩橋 正修 ,  本田 和之 ,  浜田 勝己
Applicant, Patent owner： 株式会社クボタ
Agent (1)： 北村 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995111585
Publication number (International publication number)：1996299976
Application date： May. 10, 1995
Publication date： Nov. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】 安価にかつ簡単な構成で安定した濾過圧を得やすい浄化槽を提供する。【構成】 膜分離装置Mを内装してある膜分離槽Eを設け、被処理水を前記膜分離槽Eに導入する流入路B4を設け、前記流入路B4に被処理水を供給する供給装置Pを設け、膜分離装置Mに対して気泡を供給する散気装置Dを設け、膜分離された濾過水を膜分離槽E外へ導く排水路Yを設けた浄化槽において、前記膜分離槽Eを気密空間内に設けるとともに、前記膜分離槽Eの気体層E1を気密空間外への給気装置Gに連通してある。

Claim (excerpt)：

膜分離装置(M)を内装してある膜分離槽(E)を設け、被処理水を前記膜分離槽(E)に導入する流入路(B4)を設け、前記流入路(B4)に被処理水を供給する供給装置(P)を設け、膜分離装置(M)に対して気泡を供給する散気装置(D)を設け、膜分離された濾過水を膜分離槽(E)外へ導く排水路(Y)を設けた浄化槽であって、前記膜分離槽(E)を気密空間(K)内に設けるとともに、前記膜分離槽(E)の気体層(E1)を気密空間外への給気装置(G)に連通してある浄化槽。

IPC (2)：

C02F 3/00 ZAB ,  C02F 1/44 ZAB

FI (2)：

C02F 3/00 ZAB B ,  C02F 1/44 ZAB F