冷光放射性高分子材料

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：大野聖二 , 森田耕司 , 田中玲子 , 山田勇毅 , 北野健
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002568657
Publication number (International publication number)：2004526024
Application date： Feb. 26, 2002
Publication date： Aug. 26, 2004
Summary：

【解決手段】励起によって可視領域での冷光放射を行う、次の一般式で表されるモノマー:Mn+(L)n-(CL)x。この式において、n+は、Mの価数を表し、(L)は、1又は2以上の総計n-の価数を有するアニオンリガンドを表し、前記リガンドの少なくとも1つは次の式を有する:Ch-X-Y。この式において、Chは、キレート結合部及びキレート結合部が共役されたリガンドの残りの部分からなるリガンドの断片であるキレート/イオン結合基であり、Yは、オレフィン基を表し、Xは、少なくとも4の炭素及びヘテロ原子の鎖からなるスペーサー又は結合部であり、xは0,1又は2であり、CLは中性コリガンドであり、Mは2,12,13、d-ブロック又はf-ブロックの金属原子を表し、ここで、Yがスチレン又は置換されているスチレン基の一部であるときはMがf-ブロック又はd-ブロック金属である。

Claim (excerpt)：

励起によって可視領域での冷光放射を行う、次の一般式で表されるモノマー。 (化1) Mn+(L)n-(CL)x この式において、n+は、Mの価数を表し、(L)は、1又は2以上の総計-n価を有するアニオンリガンドを表し、前記リガンドの少なくとも1つは次の式を有する。 (化2) Ch-X-Y この式において、Chは、キレート結合部及びキレート結合部が共役されたリガンドの残りの部分からなるリガンドの断片であるキレート/イオン結合基であり、Yは、オレフィン基を表し、Xは、少なくとも4の炭素及びヘテロ原子の鎖からなるスペーサー又は結合部であり、xは0,1又は2であり、CLは中性コリガンドであり、Mは2,12,13、d-ブロック又はf-ブロックの金属原子を表し、ここで、Yがスチレン又は置換されているスチレン基の一部であるときはMがf-ブロック又はd-ブロック金属である。

IPC (5)：

C08F20/18 , C07C69/80 , C07D215/24 , C09K11/06 , H05B33/14

FI (5)：

C08F20/18 , C07C69/80 B , C07D215/24 , C09K11/06 660 , H05B33/14 B

F-Term (29)：

3K007AB02 , 3K007AB03 , 3K007AB07 , 3K007AB18 , 3K007DB03 , 4H006AA01 , 4H006AB46 , 4H006BJ30 , 4H006BJ50 , 4J100AB02Q , 4J100AL03Q , 4J100AL08P , 4J100AL09Q , 4J100AQ26Q , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA15P , 4J100BA16P , 4J100BC43P , 4J100BC65P , 4J100BD04P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100DA55 , 4J100DA61 , 4J100FA03 , 4J100FA17 , 4J100JA32 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

発光性コポリマー
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-043298 Applicant：バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
特開昭50-117883

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