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J-GLOBAL ID：200903084143658540
ポジ型フォトレジスト組成物
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993291852
Publication number (International publication number)：1995140649
Application date： Nov. 22, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：
【要約】【目的】高感度かつ時間経過に伴う異物の発生のないポジ型フォトレジスト組成物を得ること。【構成】2,2’,3,4,4’-ペンタヒドロキシベンゾフェノンの1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸のエステルまたは1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸のエステルで、平均して2.5〜4.5個の水酸基がエステル化されている1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
アルカリ可溶性樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、2,2’,3,4,4’-ペンタヒドロキシベンゾフェノンの1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸のエステル、または1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸のエステルであって、平均して2.5〜4.5個の水酸基がエステル化されている、1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (2)：
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