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J-GLOBAL ID：200903084150176586
ドライエツチング方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
守谷 一雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991262405
Publication number (International publication number)：1993102086
Application date： Oct. 09, 1991
Publication date： Apr. 23, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】発光スペクトルの変化を監視することにより、正確にエッチング終点を検出することができるドライエッチング方法を提供する。【構成】被処理体をエッチングガスによりドライエッチングするに際し、エッチングガスの活性種CF2ガスの発光強度及び反応生成物CO、CO+の発光強度をそれぞれ検出し、所定の指定区間についてCF2ガスの発光強度と反応生成物の発光強度に所定の演算をして係数を求める。次いで、得られる発光強度についてこれら係数に基づく演算をした後、2つの発光強度の比を求める。この比の変化を監視し、比の変化に基づいてドライエッチングの終点を決定し、必要に応じオーバーエッチングをコントロールする。【効果】アルゴンガス等の多量の添加ガスを含む系であっても、また面積当りの被エッチング領域の狭い(開口率の低い)エッチング対象であっても、正確に生成ガスの変化を検出することができる。
Claim (excerpt)：
被処理体をエッチングガスによりドライエッチングするに際し、前記エッチングガスの活性種の発光強度及び反応生成物の発光強度をそれぞれ検出し、前記活性種の発光強度と前記反応生成物の発光強度を所定の演算をした後、2つの発光強度の比を求め、この比に基づいてドライエッチングの終点を決定することを特徴とするドライエッチング方法。
Patent cited by the Patent：
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