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J-GLOBAL ID：200903084156688163

疎水性エアロゲルの製法

Inventor： 園田 健二 ,  横山 勝 ,  清 三喜男 ,  横川 弘 ,  椿 健治 ,  薮ノ内 伸晃 ,  高坂 啓詞
Applicant, Patent owner： 松下電工株式会社
Agent (1)： 西川 惠清 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998142769
Publication number (International publication number)：1999335115
Application date： May. 25, 1998
Publication date： Dec. 07, 1999
Summary：

【要約】【課題】 多量の溶媒を使用する必要なく、疎水化処理の際に発生するアンモニアを効率的に除去することができる疎水性エアロゲルの製法を提供する。【解決手段】骨格が(SiO2)m(mは正の整数)で且つシラノール基を有するゲルを、疎水化処理の際に副生成物としてアンモニアを生じるシリル化剤を疎水化処理剤として使用して疎水化処理し、次いで超臨界乾燥することによって疎水性エアロゲルを製造する。この際に、疎水化処理後の処理液を二酸化炭素と接触させ、処理液中のアンモニアを炭酸アンモニウムとして析出させて除去する。二酸化炭素とアンモニアの反応によって多量の溶媒を用いることなくアンモニアを除去することができる。

Claim (excerpt)：

骨格が(SiO2)m(mは正の整数)で且つシラノール基を有するゲルを、疎水化処理の際に副生成物としてアンモニアを生じるシリル化剤を疎水化処理剤として使用して疎水化処理し、次いで超臨界乾燥することによって疎水性エアロゲルを製造するにあたって、疎水化処理後の処理液を二酸化炭素と接触させ、処理液中のアンモニアを炭酸アンモニウムとして析出させて除去することを特徴とする疎水性エアロゲルの製法。

IPC (2)：

C01B 33/158 ,  C01B 33/16

FI (2)：

C01B 33/158 ,  C01B 33/16