Pat
J-GLOBAL ID：200903084167165685

微細気泡発生器及び該微細気泡発生器を用いた微細気泡発生方法

Inventor：
森 光典

About 森 光典


Applicant, Patent owner：
株式会社森機械製作所

About 株式会社森機械製作所


Agent (1)： 早川 政名 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000066888
Publication number (International publication number)：2001252546
Application date： Mar. 10, 2000
Publication date： Sep. 18, 2001
Summary：
【要約】【課題】 深層水や高粘度流体に対しても使用できる上、簡素な構造でもって微細気泡を効率よく多量に発生し液中に広く拡散でき、エネルギー消費も少ない微細気泡発生器及び該微細気泡発生器を用いた微細気泡発生方法を提供する。【解決手段】 気体42を充満可能な空間Sを形成している気体室10と、該気体室10外で加圧された液体41を該気体室10内で噴射する液体噴射ノズル20と、該気体室10に気体42を導入すべく該気体室10外と連通した気体導入管30とを備え、前記気体室10の壁面には、前記液体噴射ノズル20から噴射された液体41が該気体室10内の気体42を誘引して該気体室10外へ通過するように、液体噴射ノズル20の噴射方向に対応させて噴出孔11aが形成されている。
Claim (excerpt)：
気体を充満可能な空間を形成している気体室と、該気体室外で加圧された液体を該気体室内で噴射する液体噴射ノズルと、該気体室内に気体を導入すべく該気体室外と連通した気体導入管とを備え、前記気体室の壁面には、前記液体噴射ノズルから噴射された液体が該気体室内の気体を誘引して該気体室外へ通過するように、液体噴射ノズルの噴射方向に対応させて噴出孔が形成されていることを特徴とする微細気泡発生器。
IPC (3)：
B01F 5/02 ,  B01F 3/04 ,  C02F 3/20
FI (3)：
B01F 5/02 Z ,  B01F 3/04 C ,  C02F 3/20 Z
F-Term (8)：
4D029AA09 ,  4D029AB06 ,  4D029BB06 ,  4D029BB11 ,  4G035AB04 ,  4G035AC26 ,  4G035AE01 ,  4G035AE13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特公平1-033211
  • エジェクター装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-218031   Applicant：ゴールドシステム株式会社
  • 特公平5-043406
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM