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J-GLOBAL ID：200903084198841824

被処理水の膜処理装置

Inventor： 芳賀 鉄郎 ,  森 利克 ,  久保田 昌良 ,  陰山 晃治 ,  小松 直人
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997105709
Publication number (International publication number)：1998296057
Application date： Apr. 23, 1997
Publication date： Nov. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】膜に対する汚濁負荷が高くなると、膜の逆洗頻度が多くなり逆洗時に使用する透過水が増加するため、透過水量の回収率が低下する。また、膜に補足された微生物の増殖を抑制する目的で、被処理水または逆洗水へ洗浄薬品を添加すると、洗浄薬品添加後の排水処理が必要となると共に膜処理コストが高くなる。一方、洗浄薬品添加に伴い膜処理ろ過できない副生物が生成し、膜処理ろ過後の透過水の水質が低下する。【解決手段】膜9の被透過水側にろ過粒子6を配置して、ろ過粒子6で被処理水をろ過後、次に膜9でろ過する。一方、被処理水を膜処理ろ過して透過水を得る膜処理装置で、被処理水を光触媒30で処理して、その後膜処理ろ過する。

Claim (excerpt)：

被処理水をろ過する膜の被透過水側に前記膜の孔径よりも大きいろ過粒子を配置し、前記ろ過粒子を介して前記被処理水をろ過した後、前記膜で被処理水をろ過することを特徴とする被処理水の膜処理装置。

IPC (8)：

B01D 63/00 ,  B01D 37/04 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00

FI (8)：

B01D 63/00 ,  B01D 37/04 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 9/00 502 E ,  C02F 9/00 502 R