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J-GLOBAL ID：200903084207998448
レジスト現像液
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
田治米 登 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997036305
Publication number (International publication number)：1998232499
Application date： Feb. 20, 1997
Publication date： Sep. 02, 1998
Summary：
【要約】【課題】 ポジ型フォトレジストの現像に際して、レジスト残さを解消し、また、マスクパターンの疎密差によるレジストパターンの寸法変動を抑制することのできるレジスト現像液を得る。【解決手段】 アルカリ水溶液からなるレジスト現像液に、ジヒドロキシベンゼンまたはトリヒドロキシベンゼンを含有させる。
Claim (excerpt)：
アルカリ水溶液からなるレジスト現像液であって、ジヒドロキシベンゼンまたはトリヒドロキシベンゼンを含有することを特徴とするレジスト現像液。
IPC (3)：
G03F 7/32
, G03F 7/039
, H01L 21/027
G03F 7/32
, G03F 7/039
, H01L 21/30 569 E
