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J-GLOBAL ID：200903084215209584

フォトレジスト組成物

Inventor：
難波 克彦

About 難波 克彦


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000184169
Publication number (International publication number)：2002006483
Application date： Jun. 20, 2000
Publication date： Jan. 09, 2002
Summary：
【要約】【課題】 樹脂と酸発生剤を含有し、エキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のレジスト組成物であって、感度、解像度、耐熱性、残膜率、塗布性、プロファイルなどの優れた諸性能を維持しながら、現像欠陥を生じさせないフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 バインダー成分、酸発生材及びフッ素原子を含む界面活性剤(特に一般式(I))を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。(式中、R1〜R5は、それぞれ独立に水素、フッ素原子、炭素数1〜4のアルキル又は炭素数5から7のシクロアルキル基を表し、nは10〜10000を表す)
Claim (excerpt)：
バインダー成分、酸発生材及びフッ素原子を含む界面活性剤を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (11)：
G03F 7/004 504 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/41 ,  C08K 5/43 ,  C08L 83/08 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 501 ,  H01L 21/027
FI (11)：
G03F 7/004 504 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/41 ,  C08K 5/43 ,  C08L 83/08 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 501 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (36)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC04 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BC011 ,  4J002BC121 ,  4J002BG011 ,  4J002BG071 ,  4J002CP082 ,  4J002EJ068 ,  4J002EN067 ,  4J002EU037 ,  4J002EU117 ,  4J002EU137 ,  4J002EU188 ,  4J002EU237 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV266 ,  4J002EV296 ,  4J002GP03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (47)
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