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J-GLOBAL ID：200903084236933576

洗浄装置およびその方法

Inventor： 新藤 尚樹
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 井上 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995019823
Publication number (International publication number)：1996195372
Application date： Jan. 12, 1995
Publication date： Jul. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 被処理体に対して洗浄処理液による洗浄処理とリンス処理とを同一の処理槽で行うにあたって、均一性の高い洗浄処理を行うこと、及び効率よくリンス処理を行うことを目的とする。【構成】 処理槽3内の被処理体の両側に、被処理体の配列方向に伸び、複数の吹き出し孔51、61、62が長さ方向に形成されたノズル5A、5B、6A、6Bを設け、洗浄処理後にこのノズルからリンス液を吹き出して洗浄処理液を置換する。この場合ノズルの下方側に整流手段8を設け、先ずノズルからリンス液を吹き出して洗浄処理液の濃度が低くなった後、処理槽3の底部から整流手段8を通じてリンス液を供給するとリンス液による置換の時間が短くなる。

Claim (excerpt)：

複数の被処理基板を並べて保持するための保持部と、この保持部に保持された複数の被処理基板を洗浄処理液で洗浄し、次いでリンス液でリンスするための処理槽と、この処理槽内に洗浄処理液を供給するための洗浄処理液供給部と、前記処理槽内の被処理基板の下部側に設けられ、前記処理槽内にリンス液を吹き出すための複数の吹き出し孔が被処理基板の配列方向に沿って形成されたリンス液吹き出し部と、を備え、前記被処理基板を洗浄処理液により洗浄処理した後、前記リンス液吹き出し部からリンス液を処理槽内に導入してリンス液で洗浄処理液を置換することを特徴とする洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/04