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J-GLOBAL ID：200903084247149893

荷電粒子ビーム装置

Inventor： 坂 口 清 志
Applicant, Patent owner： 日本電子株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999064411
Publication number (International publication number)：2000260383
Application date： Mar. 11, 1999
Publication date： Sep. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ターゲット上の帯電を中和することを目的とする。【解決手段】 ホストコンピュータは、設定されたターゲットの種類とモードの組み合わせに対応した主ビーム電流と中和ビーム電流の比に基づいて、中和ビーム電流値を決定し、決定した中和ビーム電流値に対応した指令信号を中和銃制御部29へ送る。又、スポット径決定の関係式に基づいて中和ビームスポット径を決定し、決定した中和ビームスポット径に対応した指令信号を中和銃制御部29へ送る。又、ホストコンピュータから中和ビームオン,オフ指令信号が中和銃制御部29に送られる。中和銃制御部29は、前記ターゲット6上に照射される電子ビームの電流量が決定された電流値になるように電子銃26を制御し、又、電子ビームのターゲット6上でのスポット径が決定された大きさになるように集束レンズ24のレンズ強度を制御する。

Claim (excerpt)：

ターゲット上へ荷電粒子ビームを照射することにより目的の作業を行うように成しており、前記ターゲット上に帯電した電荷を中和するための中和用ビームを発生する中和銃を備えた荷電粒子ビーム装置において、予め設定された比に基づいて作業用荷電粒子ビームの電流値と中和用ビームの電流値とが連動して変えられるように成したことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。

IPC (4)：

H01J 37/317 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/28 ,  H01L 21/66

FI (4)：

H01J 37/317 D ,  H01J 37/20 H ,  H01J 37/28 B ,  H01L 21/66 C

F-Term (13)：

4M106BA03 ,  4M106DH01 ,  4M106DH24 ,  4M106DH60 ,  5C001CC04 ,  5C001CC08 ,  5C033MM03 ,  5C033MM05 ,  5C033UU02 ,  5C033UU04 ,  5C034DD03 ,  5C034DD06 ,  5C034DD07