Pat

J-GLOBAL ID：200903084249855159

酸性頭髪処理剤組成物

Inventor： 小路 稔徳
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 田治米 登 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993125446
Publication number (International publication number)：1994329521
Application date： Apr. 27, 1993
Publication date： Nov. 29, 1994
Summary：

【要約】【目的】 頭髪処理剤組成物に、頭髪に柔らかな感触を与えるコンディショニング効果を付与すると共に、そのpHを3〜5という酸性にすることにより頭皮の痒みを抑制もしくは予防効果を付与する。【構成】 特定のリン酸エステル系界面活性剤(成分(A))と、特定のヒドロキシスルホベタイン及び特定のアミドベタインから選ばれる少なくとも一種(成分(B))と、酸性化剤(成分(C))とから頭髪処理剤組成物を構成し、そのpHを3〜5とする。この場合、成分(A)のリン酸エステル系界面活性剤は10〜40重量%、成分(B)のヒドロキシスルホベタイン及びアミドベタインは0.1〜80重量%とすることが好ましい。

Claim (excerpt)：

以下に示す(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有し、且つpHが3〜5であることを特徴とする酸性頭髪処理剤組成物:(A)成分一般式(I) 又は(II)【化1】(各式中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立的に炭素数8〜18の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、X及びYはそれぞれ独立的に水素原子、アルカリ金属、アンモニウム又は炭素数2もしくは3のヒドロキシアルキル基を有するアルカノールアミンであり、l、m及びnはそれぞれ独立的に0〜10の整数である)で表されるリン酸エステル系界面活性剤;(B)成分一般式(III)【化2】(式中、R4は炭素数8〜18の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、R5及びR6はそれぞれ独立的に低級アルキル基である)で表されるヒドロキシスルホベタイン及び一般式(IV)【化3】(式中、R7は炭素数8〜18の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、R8は低級アルキレン基である)で表されるアミドベタインから選ばれる一種以上;及び(C)成分酸性化剤。

IPC (5)：

A61K 7/06 ,  C11D 1/94 ,  C11D 1:34 ,  C11D 1:90 ,  C11D 1:92