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J-GLOBAL ID：200903084250341304
シリコンウェーハの洗浄方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
千葉 博史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991351260
Publication number (International publication number)：1993166781
Application date： Dec. 13, 1991
Publication date： Jul. 02, 1993
Summary：
【要約】【目的】洗浄工程が簡単でかつ洗浄効果に優れたシリコンウェーハの洗浄方法を提供する。【構成】金属不純物の濃度が10ppt以下、好ましくは1ppt以下、のアンモニア過酸化水素水からなる洗浄液を用いることにより酸系洗浄を省略したシリコンウェーハの洗浄方法。【効果】本発明の洗浄方法は、酸系洗浄を行なわなくてもアンモニア過酸化水素水による単独洗浄だけで金属汚染と微粒子汚染を効果的に除去することができ、洗浄工程が大幅に簡略化されると共に酸系洗浄を行なわないので廃液処理も容易である。
Claim (excerpt)：
金属不純物の濃度が10ppt以下、好ましくは1ppt以下、のアンモニア過酸化水素水からなる洗浄液を用いることにより酸系洗浄を省略したシリコンウェーハの洗浄方法。
IPC (2)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
