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J-GLOBAL ID：200903084252725266

シャンプー組成物

Inventor：
寺▲崎▼ 博幸

About 寺▲崎▼ 博幸


Applicant, Patent owner：
花王株式会社

About 花王株式会社


Agent (1)： 特許業務法人アルガ特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002233705
Publication number (International publication number)：2004075544
Application date： Aug. 09, 2002
Publication date： Mar. 11, 2004
Summary：
【解決手段】(A) 硫酸残基を有するアニオン界面活性剤、(B) カチオンポリマー、及び(C) 無機酸又はその塩を含有し、水で20重量倍希釈したときの25°CにおけるpHが1〜4であるシャンプー組成物。【効果】洗髪時には良好な泡立ちとすべりの良い泡質を有し、また乾燥後の毛髪のツヤ、柔軟性、まとまり性に優れ、かつ安定性にも優れる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
次の成分(A)〜(C) (A) 硫酸残基を有するアニオン界面活性剤 (B) カチオンポリマー (C) 無機酸又はその塩 を含有し、水で20重量倍希釈したときの25°CにおけるpHが1〜4であるシャンプー組成物。
IPC (1)：
A61K7/075
FI (1)：
A61K7/075
F-Term (36)：
4C083AB011 ,  4C083AB012 ,  4C083AB032 ,  4C083AB102 ,  4C083AC072 ,  4C083AC122 ,  4C083AC172 ,  4C083AC211 ,  4C083AC302 ,  4C083AC331 ,  4C083AC392 ,  4C083AC641 ,  4C083AC642 ,  4C083AC692 ,  4C083AC711 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC851 ,  4C083AD041 ,  4C083AD132 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD282 ,  4C083AD352 ,  4C083BB04 ,  4C083BB05 ,  4C083BB07 ,  4C083BB34 ,  4C083BB53 ,  4C083CC38 ,  4C083EE01 ,  4C083EE06 ,  4C083EE09 ,  4C083EE23 ,  4C083EE28 ,  4C083EE29
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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