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J-GLOBAL ID:200903084278689659

位置検出方法及びそれを用いた位置検出装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高梨 幸雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991340209
Publication number (International publication number):1993243118
Application date: Nov. 29, 1991
Publication date: Sep. 21, 1993
Summary:
【要約】【目的】 物理光学素子を利用してマスクとウエハとの相対的位置決めを高精度に行うことのできる位置検出方法及びそれを用いた位置検出装置を得ること。【構成】 所定の強度分布を持つ光束をマスクの位置合わせパターンに照射し、該位置合わせパターンからの信号光を用いて前記マスクとウエハー間の位置ずれを検出する方法において、前記信号光を用いて前記光束の前記マスク上への入射位置の予め決めた位置からのずれを検出し、前記マスクに対して前記光束を位置合わせすることにより前記入射位置のずれを補正し、前記位置合わせされた光束により前記マスクとウエハー間の位置ずれを検出すること。
Claim (excerpt):
所定の強度分布を持つ光束をマスクの位置合わせパターンに照射し、該位置合わせパターンからの信号光を用いて前記マスクとウエハー間の位置ずれを検出する方法において、前記信号光を用いて前記光束の前記マスク上への入射位置の予め決めた位置からのずれを検出し、前記マスクに対して前記光束を位置合わせすることにより前記入射位置のずれを補正し、前記位置合わせされた光束により前記マスクとウエハー間の位置ずれを検出することを特徴とする位置検出方法。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (2):
H01L 21/30 311 B ,  H01L 21/30 311 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平3-296603

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