Pat
J-GLOBAL ID：200903084282574017
フォトマスク基板
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山口 邦夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992031971
Publication number (International publication number)：1993232688
Application date： Feb. 19, 1992
Publication date： Sep. 10, 1993
Summary：
【要約】【目的】透明マスク基板への高精度描画を可能にすべく基板表面の高さを測定し得るフォトマスクを提供する。【構成】基板表面上に光反射部を持たない透明基板1において、パターン形成領域以外の所定領域内の少なくとも一部にのみ光反射性膜2aを設けて該基板表面の高さ測定を可能にせしめる。
Claim (excerpt)：
基板表面上に光反射部を持たない透明基板において、パターン形成領域以外の所定領域内の少なくとも一部にのみ光反射性膜を設けて該基板表面の高さ測定を可能にせしめたことを特徴とするフォトマスク基板。
IPC (2)：
Return to Previous Page
