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J-GLOBAL ID：200903084294382946
成膜方法および装置、薄膜磁気記録媒体およびその製造方法および装置ならびに磁気記憶装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
有近 紳志郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992062071
Publication number (International publication number)：1993266474
Application date： Mar. 18, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：
【要約】【目的】 例えば400Mb/in2程度以上の高密度記録が可能な薄膜磁気記録媒体を提供する。【構成】 真空中で基板S上に直接または下地層を介して磁性薄膜を形成する場合に、下地層および磁性薄膜の少なくとも一方を形成する際に、超音波振動子14により超音波振動を与える。その超音波振動により表面波振動子16を駆動し、基材または下地層に同心円型、ランダム型、干渉型等の各モードの表面波を生じさせる。
Claim (excerpt)：
真空中で基材上に薄膜を形成する成膜方法において、前記基材に超音波振動を与えながらその上に薄膜を形成することを特徴とする成膜方法。
IPC (3)：
G11B 5/85
, G11B 5/66
, H01F 41/18
Cited by examiner (8)
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