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J-GLOBAL ID：200903084328402534
成膜装置及び成膜方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
古谷 史旺 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998005560
Publication number (International publication number)：1999200042
Application date： Jan. 14, 1998
Publication date： Jul. 27, 1999
Summary：
【要約】【課題】 本発明は、コスパッタリングによって基板上にマルチレイヤーの膜を形成する成膜装置及び成膜方法に関し、その膜の積層の順序を確実に規定することを目的とする。【解決手段】 複数または単数の基板を装着した基板キャリアを、複数のターゲットに対して回転させる基板キャリアの回転機構と、複数のターゲット各々を同時放電させるスパッタリング手段と、複数のターゲットそれぞれに対応して設置され、基板とそれら複数のターゲットとの間を個別に開放または閉鎖可能な複数のシャッターと、基板キャリアの回転機構およびスパッタリング手段の動作中に、複数のシャッターの一部または全部を、個別に開放または閉鎖させるシャッターの開閉駆動部とを備えたことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
複数または単数の基板を装着した基板キャリアを、複数のターゲットに対して回転させる基板キャリアの回転機構と、前記複数のターゲットおのおのを同時放電させるスパッタリング手段と、前記複数のターゲットそれぞれに対応して設置され、前記基板とそれら複数のターゲットとの間を個別に開放または閉鎖可能な複数のシャッターと、前記基板キャリアの回転機構および前記スパッタリング手段の動作中に、前記複数のシャッターの一部または全部を、個別に開放または閉鎖させるシャッターの開閉駆動部とを備えたことを特徴とする成膜装置。
IPC (4)：
C23C 14/54
, C23C 14/34
, G11B 11/10 541
, G11B 11/10
C23C 14/54 G
, C23C 14/34 G
, C23C 14/34 C
, G11B 11/10 541 B
, G11B 11/10 541 F
, G11B 11/10 541 H
