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J-GLOBAL ID：200903084340398151

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 漢那 慎一 ,  水谷 一良 ,  佐々木 知也
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002227580
Publication number (International publication number)：2004069921
Application date： Aug. 05, 2002
Publication date： Mar. 04, 2004
Summary：

【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高解像で塗布性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)特定の繰り返し単位を有する、アルカリ可溶性又は酸の作用により分解してアルカリ水溶液への溶解性が向上する樹脂、(B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(2b)又は(2c)で表される繰り返し単位を少なくとも1種有する、アルカリ可溶性又は酸の作用により分解してアルカリ水溶液への溶解性が向上する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物及び (C)溶剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (2)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (12)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17