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J-GLOBAL ID：200903084347081781

光波測距儀を用いた3次元形状測定方法

Inventor： 松本 博幸 ,  井上 茂司 ,  西園 広之 ,  林 健治
Applicant, Patent owner： トピー工業株式会社
Agent (1)： 田渕 経雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996129990
Publication number (International publication number)：1997311021
Application date： May. 24, 1996
Publication date： Dec. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】 高精度で測定が自動化された光波測距儀を用いた3次元形状の測定方法の提供。【解決手段】 ターゲットPnの設計座標を抽出し、ターゲットPnのうちの一部について計測して計測座標系の計測座標を作成し設計座標とから座標変換定数を作成し、該座標変換定数を用いて全ターゲットPnの設計座標を座標変換し、各ターゲットを画像処理機器にて撮像して画像処理機器に取込み、画像処理機器にて取り込んだ画像のセンタリングを行って各ターゲットの計測座標系での座標値を求め、求めた座標値を上記の座標変換定数の逆数を用いて設計座標に変換し、これを基のPnの設計座標と比べることにより計測対象物の製作誤差を評価する、光波測距儀を用いた3次元形状測定方法。

Claim (excerpt)：

設計データを基に、計測対象物に固定の設計座標系における、計測対象物に固定の複数のターゲットPnの設計座標(Xn,Yn,Zn)を抽出する工程と、前記複数のターゲットPnのうち一部の、少なくとも3個の、ターゲットを基準点用ターゲットPiとして、該基準点用ターゲットの計測座標系における座標を計測座標系に固定の光波測距儀を用いて実際に計測し、該基準点用ターゲットPiの計測座標系での測定座標(xi,yi,zi)を求める工程と、前記基準点用ターゲットPiの、前記設計座標(Xi,Yi,Zi)と前記測定座標(xi,yi,zi)とから、設計座標系を計測座標系に変換するための座標変換マトリクスMを求める工程と、該座標変換マトリクスMを用いて全ターゲットPnの設計座標(Xn,Yn,Zn)を設計座標系から計測座標系に座標変換して、全ターゲットPnの計測座標系における理論座標(xn,yn,zn)を求める工程と、各ターゲットPnを計測座標系に固定の撮像機器により撮像して画像処理機器に取込み、撮像したターゲットPnの中心と、撮像機器中心との面内方向のずれ(dx,dy)が小さくなるように撮像機器中心の角度を調整することを少なくとも1回実行して、取り込んだターゲットPnの画像のセンタリングを行うことにより、各ターゲットPnの計測座標系での測定座標(xn’,yn’,zn’)を所定の精度以上の精度で求める工程と、前記各ターゲットPnの計測座標系での測定座標(xn’,yn’,zn’)を前記座標変換マトリクスの逆マトリクスを用いて各ターゲットPn近傍の設計座標系に座標変換して設計座標での測定座標(Xn’,Yn’,Zn’)を求める工程と、前記各ターゲットの設計座標での測定座標(Xn’,Yn’,Zn’)と前記設計座標(Xn,Yn,Zn)とを設計座標系で比較して計測対象物の各ターゲット位置における製作誤差を評価する工程と、からなる光波測距儀を用いた3次元形状測定方法。

IPC (2)：

G01B 11/24 ,  G01B 11/00

FI (2)：

G01B 11/24 C ,  G01B 11/00 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 三次元座標自動計測解析法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-272541   Applicant：新日本製鐵株式会社