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J-GLOBAL ID：200903084351641821

異方性薄膜及びその製造方法

Inventor： 氏家 孝二 ,  井上 智博 ,  中島 伸一郎
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995099895
Publication number (International publication number)：1996213233
Application date： Mar. 30, 1995
Publication date： Aug. 20, 1996
Summary：

【要約】【目的】 反磁性の異方性を有する粒子を磁場中で配向させて薄膜化することにより異方性のある薄膜を提供する。【構成】 反磁性野異方性を有する粒子が一定の秩序をもって配向している異方性薄膜。この薄膜は、磁場中におかれた前記反磁性の異方性を有する粒子をΔx・H2>1.5kT(H:磁束密度[G]k:Boltzmann定数1.381×10~16[erg・K~1]T:絶対温度[K])の条件下で溶媒蒸発法、ミセル電解法、静電気化学時ミセル薄膜形成法、伝着法、光重合性モノマー分散法などにより製造される。

Claim (excerpt)：

反磁性の異方性を有する粒子が一定の秩序をもって配向されてなることを特徴とする異方性薄膜。

IPC (2)：

H01F 10/10 ,  H01F 41/14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平1-284511
  
• 特開平2-220034
  
• 液晶表示素子及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-346590   Applicant：株式会社東芝
• 特開平2-018390