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J-GLOBAL ID：200903084380646328

レーザ熱処理方法及びその装置

Inventor： 後藤 訓顕 ,  伊藤 弘
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997053340
Publication number (International publication number)：1998256178
Application date： Mar. 07, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明は、被処理物を長時間にわたって熱処理温度以上に維持して被処理物を改質する。【解決手段】被処理物3に膜損傷を発生させる温度以上とならない強度の第1のパルスレーザ光L1 を照射し、この第1のパルスレーザ光L1 の照射後、下地2の温度が最も高くなったときに被処理物3に対して被処理物3に膜損傷を発生させずかつ被処理物3の熱処理温度Tp以上となる強度の第2のパルスレーザ光L2を照射する。

Claim (excerpt)：

被処理物にパルスレーザ光を照射して前記被処理物を熱処理するレーザ熱処理方法において、前記被処理物に対して損傷を発生させる温度以上とならない強度のパルスレーザ光を照射し、この後、前記被処理物に対して前記被処理物に損傷を発生させずかつ前記被処理物の溶融温度以上となる強度のパルスレーザ光を少なくとも1回所定の間隔で照射することを特徴とするレーザ熱処理方法。

IPC (2)：

H01L 21/268 ,  H01L 21/3205

FI (3)：

H01L 21/268 J ,  H01L 21/268 F ,  H01L 21/88 B