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J-GLOBAL ID：200903084390604178

窒化ガリウム系化合物半導体の製造方法

Inventor： 小出 典克
Applicant, Patent owner： 豊田合成株式会社
Agent (1)： 藤谷 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997322132
Publication number (International publication number)：1999145516
Application date： Nov. 07, 1997
Publication date： May. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】素子特性及び製造効率を向上させること。【解決手段】シリコン基板1の上にはストライプ状又は格子状にAl0.15Ga0.85N層2が形成されている。基板1の露出領域Aと層2の上部領域Bに、GaN 層3を成長させる。このとき、GaN は、層2のAl0.15Ga0.85N 上に3次元的(垂直方向のみならず横方向にも)にエピタキシャル成長する。このように、GaN が横方向にもエピタキシャル成長するので、基板1の露出領域Aである横方向成長領域では転位が大幅に減少した窒化ガリウム系化合物半導体を得ることができる。

Claim (excerpt)：

基板上に第1の窒化ガリウム系化合物半導体を成長させ、その後、その第1の窒化ガリウム系化合物半導体を、前記基板の露出部が散在するように、点状、ストライプ状又は格子状等の島状態にエッチングし、その後、前記島状態の前記第1の窒化ガリウム系化合物半導体を核として成長するが、前記基板の露出部を核としてはエピタキシャル成長しない第2の窒化ガリウム系化合物半導体を成長させ、前記基板の露出面上は横方向成長により形成することを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体の製造方法。

IPC (2)：

H01L 33/00 ,  H01L 21/20

FI (2)：

H01L 33/00 C ,  H01L 21/20