Pat
J-GLOBAL ID:200903084395178223
座瘡治療のための方法および装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
清水 初志
, 橋本 一憲
, 新見 浩一
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2003522355
Publication number (International publication number):2005503388
Application date: Aug. 22, 2002
Publication date: Feb. 03, 2005
Summary:
皮膚障害治療のためのシステムおよび方法を開示する。より詳細には、開示される本発明は、外因性発色団組成物での脂腺および周辺組織の治療および脂腺の活性を阻害し、続いて座瘡細菌を除去するための可視光線、赤外線、または紫外線への標的組織の曝露による、座瘡および座瘡瘢痕の治療を目的とする。本発明の治療方法は、酵素ピーリング、マイクロダーマアブレイジョン、または超音波を含む手順の使用により脂腺および周辺組織への局所組成物の透過を増強することによってさらに補強することができる。
Claim (excerpt):
光調整増強剤を標的生体組織に隣接した皮膚または該標的生体組織に直接適用する段階、および該光調整増強剤を少なくとも1つの主発光波長が約300nmから約1400nmの間である電磁放射線源に曝露する段階を含み、
該光調整増強剤が該標的組織の阻害、サイズ減少、または破壊を引き起こすべく選択された該主発光波長にて特徴的な吸収性を有する、皮膚障害を治療するための方法。
IPC (9):
A61K41/00
, A61B18/00
, A61B18/20
, A61K31/409
, A61K31/555
, A61K47/10
, A61K47/22
, A61N5/06
, A61P17/10
FI (11):
A61K41/00
, A61K31/409
, A61K31/555
, A61K47/10
, A61K47/22
, A61N5/06 A
, A61N5/06 B
, A61N5/06 E
, A61P17/10
, A61B17/36 350
, A61B17/36 330
F-Term (34):
4C026AA04
, 4C026BB06
, 4C026FF58
, 4C026HH01
, 4C060JJ22
, 4C060MM22
, 4C076DD37Y
, 4C076DD59Y
, 4C076FF70
, 4C082PA01
, 4C082PA02
, 4C082PA03
, 4C082PA04
, 4C082PC01
, 4C082PC03
, 4C082PE01
, 4C082PE02
, 4C082PJ01
, 4C082PJ03
, 4C082PL03
, 4C082PL04
, 4C082PL05
, 4C082RA01
, 4C082RC06
, 4C082RL01
, 4C084AA11
, 4C084NA05
, 4C084ZA891
, 4C086AA01
, 4C086CB04
, 4C086HA01
, 4C086HA28
, 4C086NA05
, 4C086ZA89
Article cited by the Patent:
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