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J-GLOBAL ID：200903084420973017

光重合法による反射防止物品の製造方法

Inventor：
鈴木 智之

About 鈴木 智之

, 
伊東 有道

About 伊東 有道


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 金山 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001352674
Publication number (International publication number)：2003149405
Application date： Nov. 19, 2001
Publication date： May. 21, 2003
Summary：
【要約】【課題】 光反射低減、及び表示視認性向上ができる微細凹凸による反射防止が成された反射防止物品を生産性良く製造する。【解決手段】 基材1表面に反射防止用の微細凹凸2を有する反射防止物品を光重合法で製造する際に、(A)微細凹凸形状を造形した原型を作製し、(B)賦形型31として原型表面の微細凹凸形状を1又は2回以上の型取・反転による複製を経て複製型を作製し、(C)賦形型と光硬化性樹脂の未硬化物1Aとを接触させた状態で、樹脂を光重合により硬化後、賦形型と樹脂の硬化物とを離型する、各工程を順次行う。微細凹凸2の形状は、微細凹凸の最凸部に於ける周期をPMAXを、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長λMIN以下、水平断面内での基材材料部分の断面積占有率が、微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次減少して行く様な形状とする。
Claim (excerpt)：
基材の表面に反射防止用の微細凹凸を形成して成る反射防止物品を光重合法により製造する方法であって、上記微細凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長をλMIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をPMAXとしたときに、PMAX≦λMINなる関係を有し、且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断したと仮定したときの断面内に於ける基材の材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行く様な凹凸であり、上記反射防止物品を光重合法によって製造する際に、工程として順次、(A)先ず、微細凹凸形状を造形した原型を作製し、(B)次いで、賦形型として、上記原型の表面の微細凹凸形状を1又は2回以上の型取・反転による複製を経て複製型を作製し、(C)次いで、上記賦形型の微細凹凸形状表側と、光硬化性樹脂の未硬化物とを接触させた状態で、該光硬化性樹脂を光重合により硬化させた後、賦形型と光硬化性樹脂の硬化物とを離型して、反射防止物品を作製する、各工程を行う、光重合法による反射防止物品の製造方法。
IPC (7)：
G02B 1/11 ,  B29C 39/10 ,  B29C 39/26 ,  B29C 59/02 ,  G02F 1/1335 ,  B29K101:10 ,  B29L 11:00
FI (7)：
B29C 39/10 ,  B29C 39/26 ,  B29C 59/02 Z ,  G02F 1/1335 ,  B29K101:10 ,  B29L 11:00 ,  G02B 1/10 A
F-Term (29)：
2H091FA31X ,  2H091FA37X ,  2H091FC17 ,  2H091FC18 ,  2H091FC23 ,  2H091LA12 ,  2K009AA12 ,  2K009CC24 ,  2K009DD05 ,  2K009DD15 ,  4F202AA44 ,  4F202CA01 ,  4F202CB01 ,  4F202CD03 ,  4F202CD04 ,  4F202CD05 ,  4F204AA44 ,  4F204AF01 ,  4F204AH42 ,  4F204EA03 ,  4F204EA04 ,  4F204EB01 ,  4F204EK18 ,  4F204EK24 ,  4F209AA44 ,  4F209AG05 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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