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J-GLOBAL ID：200903084435106670

遮光パターンの形成方法

Inventor： 佐藤 守正 ,  岩崎 政幸 ,  篠崎 文明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991333337
Publication number (International publication number)：1993034517
Application date： Dec. 17, 1991
Publication date： Feb. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 平坦性の良好な、且つ白抜け等が無く遮蔽能の高い遮光パターンを、簡便に形成する方法を提供することにある。本発明の方法は、優れた特性を有するカラーフイルターの作成に特に有用である。【構成】 基板上に、単一もしくは複数の色の画素パターンを形成した後、光重合性遮光材料層を形成して露光・現像して遮光パターンを形成する。この際、遮光性材料に裏面から露光するか、もしくは、マスクの開口部よりパターン画素が大きくなる様に露光する。その後、遮光パターンの各画素をサイドエッチングすることにより、着色パターンと遮光パターンとの重なり部を除去する。

Claim (excerpt)：

?@基板上に、単一もしくは複数の色の画素パターンを形成する工程、?A該単一もしくは複数の色の画素パターンをもつ基板上に光重合性遮光材料層を形成する工程、?B裏面より全面露光する工程、?C該基板上に形成された画素パターンの各画素の周辺及び画素が存在しない部分が光透過性のマスクを介して、該光重合性遮光材料に露光する工程、?D該光重合性遮光材料を現像して未露光部を除去し、遮光パターンを形成する工程、?E該形成された遮光パターンの各画素をサイドエッチングし、着色パターンと遮光パターンとの重なり部を除去する工程、を含むことを特徴とする遮光パターンの形成方法。

IPC (2)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505