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J-GLOBAL ID：200903084452536425

光プローブおよびその製造方法ならびに光ヘッド

Inventor： 宮内 大助 ,  木練 透 ,  篠浦 治 ,  山岡 英彦
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社
Agent (1)： 石井 陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998265688
Publication number (International publication number)：2000082234
Application date： Sep. 03, 1998
Publication date： Mar. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 近接場光を発生する平面開口プローブにおいて、精度の向上を達成すると共に生産を容易にすることである。また、生産性が高く、性能が安定しており、高転送レートを実現可能な光ヘッドを提供することである。【解決手段】 Si(100)基板10の表面側から異方性エッチングすることにより、内側面がSi(111)面から構成される四角錐状の凹部32を形成する工程と、凹部32の内側面にSi酸化物層12を形成する工程と、Si(100)基板10を裏面側からエッチングすることにより、Si酸化物層12の尖端部をSi(100)基板10裏面から突出させる工程と、突出した尖端部の少なくとも一部をエッチングすることにより、微小開口35を形成する工程とを有する光プローブの製造方法。

Claim (excerpt)：

Si(100)基板を有し、このSi(100)基板に、内側面がSi(111)面から構成される四角錐台状の貫通孔が形成されており、この貫通孔の一方端を構成する微小開口付近に近接場光を発生する光プローブであって、前記貫通孔の内側面にSi酸化物層が存在する光プローブ。

IPC (3)：

G11B 7/135 ,  G01N 13/14 ,  G11B 7/12

FI (3)：

G11B 7/135 Z ,  G01N 37/00 E ,  G11B 7/12

F-Term (11)：

5D119AA38 ,  5D119AA43 ,  5D119BA01 ,  5D119BB04 ,  5D119BB05 ,  5D119CA06 ,  5D119JA34 ,  5D119JA35 ,  5D119JA64 ,  5D119MA06 ,  5D119NA05