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J-GLOBAL ID:200903084468287832
放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001214079
Publication number (International publication number):2003031398
Application date: Jul. 13, 2001
Publication date: Jan. 31, 2003
Summary:
【要約】【課題】 放電プラズマ処理装置で用いる電極を、剛性を維持し、かつ放電特性を維持して軽量化した構造を有する放電プラズマ処理装置の提供。【解決手段】 一対の対向する電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該電極間に電界を印加することにより、放電プラズマを発生させる放電プラズマ処理装置であって、電極が薄板と内部補強体との組み合わせにより軽量化した構造を用いることを特徴とする放電プラズマ処理装置。
Claim (excerpt):
一対の対向する電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該電極間に電界を印加することにより、放電プラズマを発生させる放電プラズマ処理装置であって、電極が薄板と内部補強体との組み合わせにより軽量化した構造を用いることを特徴とする放電プラズマ処理装置。
IPC (2):
FI (2):
H05H 1/46 M
, B01J 19/08 E
F-Term (11):
4G075AA30
, 4G075BC06
, 4G075CA15
, 4G075DA02
, 4G075EB42
, 4G075EC21
, 4G075EE01
, 4G075FB02
, 4G075FB12
, 4G075FC11
, 4G075FC15
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