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J-GLOBAL ID:200903084484514369

錫-銀はんだ合金めっき層の形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 村井 卓雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998081274
Publication number (International publication number):1999279792
Application date: Mar. 27, 1998
Publication date: Oct. 12, 1999
Summary:
【要約】【課題】 錫-銀はんだ合金めっき層を形成する際に、キレート剤などを含む合金めっき浴の使用を避け、かつ品質が優れためっき層を形成する。【解決手段】 被めっき物に、まず第1層の銀層をめっきし、次にこの銀層の上に第2層の錫層を第1層の銀めっきの厚みの1.5倍以上の厚みでめっきし、続いて第1および第2層のめっきをリフローする。
Claim (excerpt):
錫-銀はんだ合金めっき層の形成方法において、下地めっきを施したまたは下地めっきを施さない被めっき物に、まず第1層の銀層をめっきし、次にこの銀層の上に第2層の錫層を第1層の銀めっきの厚みの1.5倍以上の厚みでめっきし、続いて第1および第2層のめっきをリフローすることを特徴とする錫-銀はんだ合金めっき層の形成方法。
IPC (7):
C25D 5/50 ,  B23K 35/26 310 ,  C22C 13/00 ,  C25D 3/30 ,  C25D 3/46 ,  C25D 5/10 ,  H05K 3/34 512
FI (7):
C25D 5/50 ,  B23K 35/26 310 A ,  C22C 13/00 ,  C25D 3/30 ,  C25D 3/46 ,  C25D 5/10 ,  H05K 3/34 512 C

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