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J-GLOBAL ID：200903084499813192

厚膜無機酸化物

Inventor： 秋山 善一 ,  木村 祥子 ,  藤村 格
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 小松 秀岳 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991124432
Publication number (International publication number)：1993078103
Application date： Apr. 30, 1991
Publication date： Mar. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基板上に膜厚1μm以上の結晶化あるいは配向した無機酸化物が形成されている厚膜無機酸化物及びその作成方法を提供すること。【構成】 素子を形成する基板上に無機酸化物の結晶化、及び配向化を促進する中間層を少なくとも1層以上設け、その上層に膜厚1μm以上の無機酸化物が形成されていることを特徴とする厚膜無機酸化物。

Claim (excerpt)：

素子を形成する基板上に無機酸化物の結晶化、及び配向化を促進する中間層を少なくとも1層以上設け、その上層に膜厚1μm以上の無機酸化物が形成されていることを特徴とする厚膜無機酸化物。

IPC (3)：

C01B 13/32 ,  H01B 3/00 ,  H01L 21/316