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J-GLOBAL ID：200903084507513187

高分子配合乳化型頭髪処理剤

Inventor：
大宅 亨

About 大宅 亨

, 
川井 康弘

About 川井 康弘


Applicant, Patent owner：
サンスター株式会社

About サンスター株式会社


Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995277508
Publication number (International publication number)：1997118609
Application date： Oct. 25, 1995
Publication date： May. 06, 1997
Summary：
【要約】【課題】 乾燥後の頭髪に優れたコンディショニング効果を付与し、かつ洗髪によっても該コンディショニング効果が劣化しない乳化型頭髪処理剤の提供。【解決手段】 特定量の水溶性の無機塩または有機塩、カチオン性界面活性剤および非イオン性ポリマーを配合する。
Claim (excerpt)：
(A)水溶性の無機塩または有機塩の一種または二種以上を0.001〜5重量%、(B)カチオン性界面活性剤の一種または二種以上を0.01〜10重量%、および(C)非イオン性ポリマーの一種または二種以上を0.01〜10重量%含有することを特徴とする乳化型頭髪処理剤。
IPC (2)：
A61K 7/06 ,  A61K 7/08
FI (2)：
A61K 7/06 ,  A61K 7/08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-173321   Applicant：株式会社資生堂
  • 特開平3-161422
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-130770   Applicant：花王株式会社
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Cited by examiner (9)
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-173321   Applicant：株式会社資生堂
  • 特開平3-161422
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-130770   Applicant：花王株式会社
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