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J-GLOBAL ID：200903084522146778

高α型窒化ケイ素の製造方法

Inventor： 伏井 康人 ,  磯崎 啓
Applicant, Patent owner： 電気化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993231597
Publication number (International publication number)：1995081910
Application date： Sep. 17, 1993
Publication date： Mar. 28, 1995
Summary：

【要約】【目的】 比較的安価な原料である金属シリコンを用いて、特殊な粉砕工程や湿式の精製処理のような手間のかかる後処理を必要としないで、高α化率のファインセラミックス原料用窒化ケイ素粉末を比較的安価に製造する。【構成】 金属シリコンを含む窒化原料を窒素及び/又はアンモニアからなる反応ガスを含む雰囲気下に加熱して窒化ケイ素を製造する際に、密封可能な反応炉に、その炉内ガス容積1m3 に対して10kg以上の金属シリコン分を含む窒化原料を充填し、それを以下の条件で窒化することを特徴とする高α型窒化ケイ素の製造方法。(1)反応速度4%/hr以下。(2)窒化率10〜90%における反応速度0.5%/hr以上。(3)窒化率50%未満における反応速度の増加分0.6%/hr2 以下。

Claim (excerpt)：

金属シリコンを含む窒化原料を窒素及び/又はアンモニアからなる反応ガスを含む雰囲気下に加熱して窒化ケイ素を製造する際に、密封可能な反応炉に、その炉内ガス容積1m3 に対して10kg以上の金属シリコン分を含む窒化原料を充填し、それを以下の条件で窒化することを特徴とする高α型窒化ケイ素の製造方法。(1)反応速度4%/hr以下。(2)窒化率10〜90%における反応速度0.5%/hr以上。(3)窒化率50%未満における反応速度の増加分0.6%/hr2 以下。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開昭56-050170
  
• 特開昭61-083604
  
• 特開昭61-158804
  
• 特開昭63-147807