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J-GLOBAL ID：200903084529521647

水素ガス分離フィルタおよびその製造方法

Inventor： 大嶋 仁英 ,  積 洋二
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998366968
Publication number (International publication number)：2000189772
Application date： Dec. 24, 1998
Publication date： Jul. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】水素ガスを含有する混合ガスから該水素ガスを選択的かつ効率的に分離するのに好適な水素ガス分離フィルタおよびその製造方法を提供する。【解決手段】多孔質支持体の少なくとも一方の表面に通気性を有するSiとZrとを含有する非晶質の酸化物からなる分離膜を被着形成した水素ガス分離フィルタを用いて、水素ガスを含む混合ガスから該水素ガスを選択的かつ効率的に透過、分離する。

Claim (excerpt)：

多孔質支持体の少なくとも一方の表面に、通気性を有するSiとZrとを含有する非晶質の酸化物からなる分離膜を被着形成した水素ガス分離フィルタ。

IPC (2)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22

FI (2)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22

F-Term (39)：

4D006GA41 ,  4D006HA27 ,  4D006HA28 ,  4D006JA25C ,  4D006KE02P ,  4D006KE07P ,  4D006KE08P ,  4D006KE12P ,  4D006KE13P ,  4D006KE16Q ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA07 ,  4D006MA08 ,  4D006MA22 ,  4D006MA24 ,  4D006MA31 ,  4D006MA33 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MB12 ,  4D006MB15 ,  4D006MB19 ,  4D006MB20 ,  4D006MC03X ,  4D006MC65X ,  4D006NA39 ,  4D006NA41 ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA51 ,  4D006NA62 ,  4D006NA63 ,  4D006NA64 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18 ,  4D006PB19 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80