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J-GLOBAL ID:200903084539309468
多目的用途用ガス電界イオン源
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
安齋 嘉章
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007279203
Publication number (International publication number):2008153199
Application date: Oct. 26, 2007
Publication date: Jul. 03, 2008
Summary:
【課題】集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】装置はイオン発生用のエミッタ領域を備えたエミッタを収容するための閉鎖空間を含むイオンビームカラムと、第1ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第1ガス流入口と、第1ガスとは異なる第2ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第2ガス流入口と、第1ガスの導入と第2ガスの導入との切り替えを行うよう適合された切替ユニットを備える。【選択図】図1a
Claim (excerpt):
イオン発生用のエミッタ領域を備えたガス電界イオン源エミッタを収容するための閉鎖空間を含むイオンビームカラムと、
第1ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第1ガス流入口と、
第1ガスとは異なる第2ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第2ガス流入口と、
第1ガス又は第2ガスから発生したイオンビームを集束するための対物レンズと、
第1ガスの導入と第2ガスの導入との切り替えを行うよう適合された切替ユニットを備える集束イオンビーム装置。
IPC (3):
H01J 37/317
, H01J 27/26
, H01J 37/08
FI (3):
H01J37/317 D
, H01J27/26
, H01J37/08
F-Term (5):
5C030DF02
, 5C034DD01
, 5C034DD05
, 5C034DD06
, 5C034DD09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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加工観察装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-027803
Applicant:株式会社日立製作所
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荷電粒子発生装置及びその発生方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-021641
Applicant:バキュームプロダクツ株式会社
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特開平2-152142
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特開平2-109240
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特開平3-059939
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特開平2-061941
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特開昭61-248346
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イオンビーム加工装置および試料作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-325811
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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イオンビーム制限絞り板、マスク、集束イオンビーム装置及び投射型イオンビーム装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-118759
Applicant:株式会社日立製作所
-
イオンビーム発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-346175
Applicant:新日本無線株式会社
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