Pat
J-GLOBAL ID:200903084539309468

多目的用途用ガス電界イオン源

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 安齋 嘉章
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007279203
Publication number (International publication number):2008153199
Application date: Oct. 26, 2007
Publication date: Jul. 03, 2008
Summary:
【課題】集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】装置はイオン発生用のエミッタ領域を備えたエミッタを収容するための閉鎖空間を含むイオンビームカラムと、第1ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第1ガス流入口と、第1ガスとは異なる第2ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第2ガス流入口と、第1ガスの導入と第2ガスの導入との切り替えを行うよう適合された切替ユニットを備える。【選択図】図1a
Claim (excerpt):
イオン発生用のエミッタ領域を備えたガス電界イオン源エミッタを収容するための閉鎖空間を含むイオンビームカラムと、 第1ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第1ガス流入口と、 第1ガスとは異なる第2ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第2ガス流入口と、 第1ガス又は第2ガスから発生したイオンビームを集束するための対物レンズと、 第1ガスの導入と第2ガスの導入との切り替えを行うよう適合された切替ユニットを備える集束イオンビーム装置。
IPC (3):
H01J 37/317 ,  H01J 27/26 ,  H01J 37/08
FI (3):
H01J37/317 D ,  H01J27/26 ,  H01J37/08
F-Term (5):
5C030DF02 ,  5C034DD01 ,  5C034DD05 ,  5C034DD06 ,  5C034DD09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
Show all

Return to Previous Page