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J-GLOBAL ID：200903084552148350

ポジ型感放射線性組成物

Inventor： 田村 一貴
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001275130
Publication number (International publication number)：2003084437
Application date： Sep. 11, 2001
Publication date： Mar. 19, 2003
Summary：

【要約】【課題】半導体回路、リソグラフィー用マスクの製造などに用いられる非常に高感度で高解像度な感放射線性組成物を得る。【解決手段】フェノール性水酸基を2個以上、7個以下有する多価フェノール化合物と2個のビニロキシアルキル基を有する化合物を重付加して得られる重合体を含有するポジ型感放射線性組成物。

Claim (excerpt)：

フェノール性水酸基を2個以上、7個以下有する多価フェノール化合物と2個のビニロキシアルキル基を有する化合物を重付加して得られる重合体を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 65/40 ,  G03F 7/032 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 65/40 ,  G03F 7/032 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (15)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB21 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J005AA24 ,  4J005BA00