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J-GLOBAL ID：200903084569533540

磁気記録媒体及びその製造方法

Inventor： 中齊 ひとみ ,  小角 雄一 ,  中川 宣雄 ,  藤巻 成彦 ,  鬼頭 諒
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992048963
Publication number (International publication number)：1993250662
Application date： Mar. 06, 1992
Publication date： Sep. 28, 1993
Summary：

【要約】【目的】 磁気ディスク等の磁気記録媒体と磁気ヘッド間の摺動、接触、衝撃等による磁性薄膜の損傷を防止し、耐久性、信頼性を高める。【構成】 磁性薄膜を備えた非磁性基体上に設ける保護膜を、膜厚が3〜10nmのアモルファス性カ-ボン極薄膜を2層以上積層し、総膜厚30nm以下として形成する。また、アモルファス性カ-ボン極薄膜を炭素、水素を主成分とする反応性気体のプラズマ法等の気相反応法により形成し、膜形成後に空気中または酸素雰囲気中に置いてその界面に酸素と水素を含ませる。

Claim (excerpt)：

非磁性基体の磁性薄膜上に保護膜を積層した磁気記録媒体において、上記保護膜を、炭素、水素を主成分とする膜厚3〜10nmのアモルファス性カ-ボン極薄膜を2層以上積層して総膜厚を30nm以下のものとしたことを特徴とする磁気記録媒体。

IPC (2)：

G11B 5/72 ,  G11B 5/84