ケミカルメカニカルポリシング装置のキャリアヘッドのデザイン

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996322071
Publication number (International publication number)：1997168968
Application date： Oct. 28, 1996
Publication date： Jun. 30, 1997
Summary：

【要約】【課題】ポリシングしようとする基板の表面全体に実質的に均一な圧力を与えるキャリアヘッド。【解決手段】本発明のキャリアヘッドは、圧力チャンバとフローティングジンバルを用いている。このフローティングジンバルにより、キャリアベースが駆動シャフトに対して旋回することが可能となるが、このときジンバルを介して基板に下向きの力が作用することはない。その代わり、ローリングダイアフラムがキャリアベースをキャリアハウジングにシールして、チャンバを形成する。チャンバに圧力を与えることにより、基板の端から端まで均等な負荷を与えることが可能となる。保持リングには、膨張可能なブラダーにより、独立に負荷が与えられる。基板近くに配置される2本の水平ピンにより、トルクがキャリアハウジングからキャリアベースへ伝達される。これらピンは、ハウジングの中で垂直にスライドすることが可能であるが、横方向にはスライドしない。しかし、トルクピンを製造許容範囲に適合させるに十分な弾性が存在するため、両方のトルクピンは回転の負荷に耐えることができる。

Claim (excerpt)：

ケミカルメカニカルポリシング装置のためのキャリアヘッドであって、駆動シャフトに接続され、前記駆動シャフトによって第1の軸の周りに回転するハウジングと、基板をポリシングパッドに対して保持し、前記ハウジングに接続され前記第1の軸の周りに回転する、ベースと、前記ポリシングパッドに対して前記基板を押圧するように前記ベースを作用させる、負荷機構と、前記ハウジングを前記ベースに旋回可能な状態で接続して、前記基板と前記ポリシングパッドとの境界部の地点の周りに前記ベースが回転できるようになる、ジンバル機構とを備えるキャリアヘッド。

IPC (2)：

B24B 37/04 , H01L 21/304 321

FI (2)：

B24B 37/04 E , H01L 21/304 321 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

研磨装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-298977 Applicant：三菱マテリアル株式会社

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